杭州晶驰机电有限公司

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核心产品
CORE PRODUCTS
小圆柱式微波等离子体沉积（CVD）系统（Small cylinder microwave plasma deposition (CVD) system）
  • 编号 J1
抛物面环形天线微波等离子体沉积系统（Parabolic loop antenna microwave plasma deposition system）
  • 编号 J2
裂缝耦合微波等离子体沉积系统（Slot coupled microwave plasma deposition system）
  • 编号 J3
75KW环形天线微波等离子体沉积系统（75KW loop antenna microwave plasma deposition system）
  • 编号 J4
蝶形腔微波等离子体沉积系统（Butterfly cavity microwave plasma deposition system）
  • 编号 J5
第二代碳化硅晶片腐蚀清洗设备（Second generation silicon carbide wafer corrosion cleaning equipment）
  • 编号 T1
单腔立式外延炉（Single chamber vertical epitaxial furnace）
  • 编号 T2
水平双腔外延炉（Horizontal double cavity epitaxial furnace）
  • 编号 T3
DRY-60A型热压炉（DRY-60A Hot Press Furnace (electric)）
  • 编号 T4
热退火炉（Hot annealing furnace）
  • 编号 T5
ATSIC -200 型 PVT 炉（ATSIC-200 PVT furnace）
  • 编号 T6

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